Integration of GaN Crystals on Micropatterned Si(0 0 1) Substrates by Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy

Isa, Fabio; Chèze, Caroline; Siekacz, Marcin; Hauswald, Christian; Lähnemann, Jonas; Fernández-Garrido, Sergio; Kreiliger, Thomas; Ramsteiner, Manfred; Dasilva, Yadira Arroyo Rojas; Brandt, Oliver; Isella, Giovanni; Erni, Rolf; Calarco, Raffaella; Riechert, Henning; Miglio, Leo

doi:10.1021/acs.cgd.5b00727

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Integration of GaN Crystals on Micropatterned Si(0 0 1) Substrates by Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy

Isa, Fabio L-NESS and Department of Physics, Politecnico di Milano, Via Anzani 42, I-22100 Como, Italy
Chèze, Caroline Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Siekacz, Marcin TopGaN sp. z.o.o., al. Prymasa Tysiąclecia 98, 01-424 Warszawa, Poland
Hauswald, Christian Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Lähnemann, Jonas Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Fernández-Garrido, Sergio Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Kreiliger, Thomas Laboratory for Solid State Physics, ETH Zurich, Otto-Stern-Weg 1, CH-8093 Zurich, Switzerland
Ramsteiner, Manfred Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Dasilva, Yadira Arroyo Rojas Electron Microscopy Center EMPA, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Uberlandstrasse 129, CH-8600 Dübendorf, Switzerland
Brandt, Oliver Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Isella, Giovanni L-NESS and Department of Physics, Politecnico di Milano, Via Anzani 42, I-22100 Como, Italy
Erni, Rolf Electron Microscopy Center EMPA, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Uberlandstrasse 129, CH-8600 Dübendorf, Switzerland
Calarco, Raffaella Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Riechert, Henning Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, Germany
Miglio, Leo L-NESS and Department of Materials Science, Università di Milano-Bicocca, Via Cozzi 55, I-20125 Milano, Italy

2015-9-18

Published in:

Crystal Growth & Design. - American Chemical Society (ACS). - 2015, vol. 15, no. 10, p. 4886-4892

Language

English

Open access status

closed

Identifiers

DOI 10.1021/acs.cgd.5b00727
ISSN 1528-7483

Persistent URL

https://sonar.ch/global/documents/113055

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